[发明专利]光学扫描装置无效

专利信息
申请号: 200380106652.3 申请日: 2003-12-01
公开(公告)号: CN1729519A 公开(公告)日: 2006-02-01
发明(设计)人: T·W·塔克;B·H·W·亨德里克斯 申请(专利权)人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
主分类号: G11B7/125 分类号: G11B7/125;G11B7/135
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 王岳;张志醒
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 一种光学扫描装置(1),用于通过辐射光束(4)扫描信息层(2)。该装置包含用于提供所述辐射光束的辐射源(7),用于将所述辐射光束转变为信息层位置处的扫描光点(19)的物镜(10),以及光束强度修改器(8),用于重新分布所述辐射光束的横截面上的强度(I2),以改变所述扫描光点的大小。光束强度修改器具有入射光瞳(8a)和出射光瞳(8b)。而且,将该光束强度修改器设置为使在与所述辐射光束中心光线相距r1的位置进入所述光束强度修改器的所述辐射光束的任何光线都在所述入射光瞳和出射光瞳之间反射至少两次,从而通过距离r1的递减函数来定义所述修改器的横向放大率M。
搜索关键词: 光学 扫描 装置
【主权项】:
1.一种光学扫描装置,用于通过预定波长的辐射光束扫描光学记录载体的信息层,该装置包含:辐射源,用于提供所述辐射光束,物镜,用于将所述辐射光束转变为信息层位置处的扫描光点,以及光束强度修改器,具有设置在所述辐射源一侧的入射光瞳和设置在所述物镜一侧的出射光瞳,用于重新分布所述辐射光束的横截面上的强度,以便改变所述扫描光点的大小,其特征在于将所述光束强度修改器设置为:使在与所述辐射光束中心光线相距r1的位置进入所述光束强度修改器的所述辐射光束的任何光线都在所述入射光瞳和出射光瞳之间反射至少两次,从而通过距离r1的递减函数来定义所述强度修改器的横向放大率M。
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