[发明专利]电容器装置制造方法及电容器装置

摘要

本发明特别是说明用以制造一电容器装置(110)的方法，其包含至少三电极(114a、118a与122b)。该电容器装置(110)是使用少于该电极(114a、118a与122b)数目的微影方法次数所图形化。本发明也说明一种电容器装置，其在金属化层之间有多于两个或多于三个的中间层间延伸。该电路装置每单位面积具有一高的电容，并可以利用一简单方式制造。本发明也说明一种方法，其中首先使用一干式蚀刻图形化一电极层。该电极层的残余是使用一湿式化学处理所移除。此方法可以制造具有良好电性质的电容器。

主权项

1.一种用于制造集成电容器装置(110)的方法，其中，该方法实行以下步骤：制造一层状堆积(124b)，其中包含以下顺序：一基础电极层(14)，一基础介电层(16)，至少一中央电极层(18)，一覆盖介电层(20)，以及一覆盖电极层(22)，使用一种第一微影方法，图形化该覆盖电极层(22)与该中央电极层(18)，以及使用一种第二微影方法，图形化该覆盖电极层(22a)与该基础电极层(14)。