[发明专利]正性抗蚀剂组合物和形成抗蚀剂图案的方法有效
| 申请号： | 200380107529.3 | 申请日： | 2003-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN1732409A | 公开（公告）日： | 2006-02-08 |
| 发明（设计）人： | 佐藤和史;萩原三雄;川名大助 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 陈长会 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 正性抗蚀剂组合物，它包括树脂组分(A)和酸生成剂组分(B)，所述组分(A)包括在酸作用下其碱溶性增加的可酸解溶解抑制基团，而所述组分(B)在曝光时产生酸，其中树脂组分(A)为包括衍生自羟基苯乙烯的第一结构单元(a1)和衍生自含醇式羟基的(甲基)丙烯酸酯的第二结构单元(a2)的共聚物，其中在结构单元(a1)内的羟基和结构单元(a2)内的醇式羟基的总量的10摩尔％或更多以及25摩尔％或更少用可酸解溶解抑制基团保护，而共聚物用可酸解溶解抑制基团保护之前的重均分子量为2,000－8,500。 | ||
| 搜索关键词： | 正性抗蚀剂 组合 形成 抗蚀剂 图案 方法 | ||
【主权项】：
1.一种正性抗蚀剂组合物，它包括如下组分：树脂组分(A)，它包括在酸作用下其碱溶性增加的可酸解溶解抑制基团；和酸生成剂组分(B)，它在曝光时产生酸，其中树脂组分(A)为包括衍生自羟基苯乙烯的第一结构单元(a1)和衍生自含醇式羟基的(甲基)丙烯酸酯的第二结构单元(a2)的共聚物，其中在结构单元(a1)内的羟基和结构单元(a2)内的醇式羟基的总量的10摩尔％或更多且25摩尔％或更少被可酸解溶解抑制基团保护，并且用可酸解溶解抑制基团保护之前的所述共聚物的重均分子量为2,000或更多且8,500或更少。
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