[发明专利]显示装置的制造方法有效
申请号: | 200380107560.7 | 申请日: | 2003-12-19 |
公开(公告)号: | CN1732719A | 公开(公告)日: | 2006-02-08 |
发明(设计)人: | 土屋薰;石垣步;斋藤惠子 | 申请(专利权)人: | 株式会社半导体能源研究所 |
主分类号: | H05B33/14 | 分类号: | H05B33/14;H05B33/10;H05B33/22 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 岳耀锋 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种显示装置的制造方法,可以抑制发光元件中的皱缩和发光不均匀等的缺陷模式,且缩短包含有机化合物的层(EL层)的前处理必需的时间。本发明的特征在于,通过形成与上述源区或漏区电连接的上述第1电极,形成上述绝缘膜以覆盖上述第1电极的端部,对上述第1电极和上述绝缘膜在包含氩气和氧气的气氛中进行等离子处理之后,在上述第1电极和上述绝缘膜上形成包含有机化合物的层,在包含有机化合物的层上形成第2电极,从而形成发光元件。 | ||
搜索关键词: | 显示装置 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种显示装置的制造方法,该显示装置具有薄膜晶体管和发光元件,其特征在于包括:形成与源区或漏区电连接的第1电极;形成绝缘膜以覆盖上述第1电极的端部;对上述第1电极和上述绝缘膜,在包含氩气和氧气的气氛中进行等离子处理之后,在上述第1电极和上述绝缘膜上形成包含有机化合物的层;在包含有机化合物的层上形成第2电极,从而形成上述发光元件。
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