[发明专利]半导体器件的阱区有效

专利信息
申请号: 200380108046.5 申请日: 2003-12-29
公开(公告)号: CN1732571A 公开(公告)日: 2006-02-08
发明(设计)人: 詹姆斯·B·伯尔;迈克·飞尔汗 申请(专利权)人: 全美达股份有限公司
主分类号: H01L27/092 分类号: H01L27/092
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 代理人: 张龙哺;郑特强
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明提供对角深阱区以用于在表面阱区里发送体偏置电压给金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)。
搜索关键词: 半导体器件
【主权项】:
1.一种半导体器件,其具有一表面,其特征在于,包括:一第一传导性的第一阱区,其设置在该表面之下;一第一传导性的第二阱区,其设置在该表面之下;及一第一传导性的传导次表面区,其设置在该第一与第二阱区之下,其中该传导次表面区相对于第一与第二阱区对角定位以使在第一阱区与传导次表面区之间形成一第一传导边界及在第二阱区与传导次表面区之间形成一第二传导边界,以在第一与第二阱区之间形成一次表面传导路径。
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