[发明专利]用于在绝缘基底上沉积金属的具有可调节粘度的光敏分散体和其用途无效
| 申请号： | 200380108171.6 | 申请日： | 2003-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN1735712A | 公开（公告）日： | 2006-02-15 |
| 发明（设计）人： | O·迪皮伊;M－H·德尔沃 | 申请（专利权）人： | 塞米卡股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C18/30 | 分类号： | C23C18/30 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王杰 |
| 地址： | 卢森堡*** | 国省代码： | 卢森堡;LU |
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| 摘要： | 本发明涉及用于在绝缘基底上沉积金属的具有可调节粘度的光敏分散体，它包括组合的在光辐照下赋予氧化还原性能的颜料、金属盐、金属盐的螯合剂、液体成膜聚合物配制剂、碱性化合物、有机溶剂和水。本发明还涉及所述分散体的用途。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 绝缘 基底 沉积 金属 具有 调节 粘度 光敏 散体 用途 | ||
【主权项】：
1.用于在绝缘基底上沉积金属的具有可调节粘度的光敏分散体，其特征在于它包括组合的在光辐照下赋予氧化还原性能的颜料、金属盐、金属盐的螯合剂、液体成膜聚合物配制剂、碱性化合物、有机溶剂和水。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法，例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法，例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀，即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法，例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法，例如无电流镀
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