[发明专利]镍合金溅射靶无效
| 申请号： | 200380108508.3 | 申请日： | 2003-10-06 |
| 公开（公告）号： | CN1735707A | 公开（公告）日： | 2006-02-15 |
| 发明（设计）人： | 山越康广 | 申请（专利权）人： | 株式会社日矿材料 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C22C19/03 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 樊卫民;郭国清 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种镍合金溅射靶，其特征在于，镍中含有0.5～10at％钽，并且除气体成分以外的不可避免的杂质在100重量ppm以下。本发明提供一种镍合金溅射靶及其制造技术，能够形成热稳定的硅化物(NiSi)膜，很难发生膜凝聚或过剩的硅化物化，并且形成溅射膜时很少产生颗粒，均匀性良好，制造靶时的塑性加工性能良好，尤其是能用于制造栅电极材料(薄膜)。 | ||
| 搜索关键词： | 镍合金 溅射 | ||
【主权项】：
1.一种镍合金溅射靶，其特征在于，在镍中含有0.5～10at％的钽。
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