[发明专利]应用于化学机械平面化的垫结构有效
| 申请号： | 200380108636.8 | 申请日： | 2003-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN1738698A | 公开（公告）日： | 2006-02-22 |
| 发明（设计）人： | J·S·科隆吉;C·N·罗彻 | 申请（专利权）人： | 3M创新有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;B24D13/14;B24D11/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 周承泽 |
| 地址： | 美国明*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及一种含固定研磨元件和附垫的磨具。固定研磨元件和附垫共同延伸。附垫含有一个弹性元件。该弹性元件的肖氏A硬度不大于60(ASTM－2240测量)。 | ||
| 搜索关键词： | 应用于 化学 机械 平面化 结构 | ||
【主权项】：
1.一种包括固定研磨层和含弹性元件的附垫的磨具，其特征在于固定研磨元件和附垫共同延伸，该弹性元件的肖氏A硬度不大于60(ASTM-2240测量)。
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