[发明专利]在光学介质制品上涂覆标记物的方法无效

专利信息
申请号: 200380109425.6 申请日: 2003-12-02
公开(公告)号: CN1745423A 公开(公告)日: 2006-03-08
发明(设计)人: 雷迪斯拉夫·A·波泰雷洛;马克·B·威斯纽德尔;史蒂文·F·哈伯德 申请(专利权)人: 通用电气公司
主分类号: G11B7/24 分类号: G11B7/24;G11B7/26;G06K19/06
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 封新琴;巫肖南
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种赋予光学制品(46)以标记物(54)的方法,其包括:修饰光学制品(46)表面(44)上的预定位置以改变预定位置的表面能;以均匀薄膜的形式将标记物(54)涂覆在光学制品(46)的整个表面(44)上;以及将标记物(54)保留在经修饰的预定位置,同时将标记物(54)从未修饰区域除去。该方法还包括:使光学制品(46)进行产生离心力的旋转运动;以及将标记物(54)保留在经修饰的预定位置,同时借助于离心力将标记物(54)从未修饰区域除去。一种光学制品(46),其包括由包括以下步骤的方法制成的识别标记:将染料溶解在合适的溶剂中以形成溶液,修饰光学制品(46)表面(44)上的预定位置以改变预定位置的表面能,将该溶液涂覆在光学制品(46)的整个表面(44)上,使光学制品(46)进行产生离心力的旋转运动,以及将染料保留在经修饰的预定位置,同时借助于离心力将染料从光学制品(46)表面(44)的未修饰位置除去。
搜索关键词: 光学 介质 制品 上涂覆 标记 方法
【主权项】:
1.一种赋予光学制品(46)以标记物(54)的方法,其包括:修饰光学制品(46)涂层表面(44)上的预定位置以改变预定位置的表面能;以均匀薄膜的形式将标记物(54)涂覆在光学制品(46)涂层的整个表面(44)上;以及将标记物(54)保留在经修饰的预定位置,同时从未修饰区域除去标记物(54)。
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