[发明专利]半透射半反射型电极基板的制造方法、反射型电极基板及其制造方法以及在该反射型电极基板的制造方法中使用的蚀刻组合物

摘要

本发明通过使用能够选择性蚀刻的蚀刻液，使半透射半反射型电极基板的制造过程简化，避免复杂的反复作业，得到不发生时间损耗的工序，效率良好地提供半透射半反射型电极基板。本发明是制造按顺序积层了至少包含氧化铟的金属氧化物层12和至少包含Al或Ag的无机化合物层14的半透射半反射型电极基板的方法，其通过使用包含磷酸、硝酸、乙酸的蚀刻液λ蚀刻上述无机化合物层14的工序和使用含有草酸的蚀刻液σ蚀刻上述金属氧化物层12的工序来制造半透射半反射型电极基板。

主权项

1.半透射半反射型电极基板的制造方法，它是顺序地积层至少包含氧化铟的金属氧化物层、至少包含Al或Ag的无机化合物层的半透射半反射型电极基板的制造方法，其特征在于包含：使用包含磷酸、硝酸、乙酸的蚀刻液λ蚀刻上述无机化合物层的工序、以及使用含有草酸的蚀刻液σ蚀刻上述金属氧化物层的工序。