[发明专利]氢分离膜及其生产方法无效

专利信息
申请号: 200380109932.X 申请日: 2003-12-22
公开(公告)号: CN1753722A 公开(公告)日: 2006-03-29
发明(设计)人: 井上明久;木村久道;山浦真一;西田元纪;大河内均;新保洋一郎 申请(专利权)人: 福田金属箔粉工业株式会社;井上明久
主分类号: B01D71/02 分类号: B01D71/02;B01D53/22;B01D69/06;C01B3/56;B22D11/06;B22D11/106;B22D11/00;B22D23/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 陈平
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种具有优异氢渗透性和耐氢脆性的氢渗透膜及其生产方法。该膜是由具有无定形晶体结构的铌合金箔片制成的,该铌合金包含5至65原子%至少一种选自Ni、Co和Mo作为第一添加元素的成员和0.1至60原子%至少一种选自V、Ti、Zr、Ta和Hf作为第二添加元素的成员,以及余量的作为不可缺少组成元素的Nb,其中可以包含0.01至20原子%的Al和/或Cu作为第三添加元素。这种合金箔片的生产方法可以包含:生产上面配方的金属混合物,于惰性气体加热金属混合物达到熔点或更高,以熔化该金属混合物,根据液体淬火技术将熔体形成为薄膜(箔片)形状。
搜索关键词: 分离 及其 生产 方法
【主权项】:
1.一种氢分离膜,其特征在于由具有无定形晶体结构的铌合金制成。
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