[发明专利]谷氨酸衍生物和焦谷氨酸衍生物的制造方法和新型的制造用中间体无效
申请号: | 200380110019.1 | 申请日: | 2003-12-26 |
公开(公告)号: | CN1756734A | 公开(公告)日: | 2006-04-05 |
发明(设计)人: | 网野裕右 | 申请(专利权)人: | 味之素株式会社 |
主分类号: | C07C227/22 | 分类号: | C07C227/22;C07C229/36;C07D207/28;C07D209/20;C07D403/06 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 刘元金;王景朝 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种以monatin为代表的谷氨酸衍生物的制造方法,该方法包含用一种烷基化剂使4-(受保护羟基)焦谷氨酸衍生物烷基化而得到一种4-(受保护羟基)-4-烷基谷氨酸衍生物,并使其发生水解和保护基消除。该4-(受保护羟基)焦谷氨酸衍生物可以容易地从羟基脯氨酸制造。该4-(受保护羟基)焦谷氨酸衍生物是选择性地和立体选择性地在4位上烷基化的,而且在该烷基化之后可以容易地转化成谷氨酸衍生物。因此,它尤其可以有利地用于高效率地制造光学纯度高的monatin。 | ||
搜索关键词: | 谷氨酸 衍生物 制造 方法 新型 中间体 | ||
【主权项】:
1.以下式(3)所示谷氨酸衍生物(包括其盐形态)的制造方法,其特征在于使以下式(1)所示4-受保护羟基焦谷氨酸衍生物(包括其盐形态)发生烷基化反应制造以下式(2)所示4-受保护羟基-4-取代焦谷氨酸衍生物(包括其盐形态)之后进行该衍生物水解和脱保护的步骤;
上述式中,R1、R4和R5各自独立地表示选自氢原子和烃基的基团,R2表示羟基的保护基,R3表示选自也可以有取代基的烃基和也可以有取代基的含杂环烃基的基团,P表示亚氨基的保护基。
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