[发明专利]光波面测定装置、光波面测定方法和光源装置的调整方法有效
申请号: | 200380110208.9 | 申请日: | 2003-11-17 |
公开(公告)号: | CN1759304A | 公开(公告)日: | 2006-04-12 |
发明(设计)人: | 竹下伸夫;藤田辉雄;的崎俊哉;田所通博 | 申请(专利权)人: | 三菱电机株式会社 |
主分类号: | G01M11/00 | 分类号: | G01M11/00;G01J9/02;G01B11/00;G11B7/22 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 王以平 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 光波面测定装置(2,2a,42)具有将从光头装置(1,31)射出了的光束分离为第1光束和第2光束的分离元件(7a,47a)、从第1光束形成并显示干涉条纹的第1干涉条纹显示部(21,21a)、使第2光束的波面以光轴(AX2)为中心旋转的偏转棱镜(13,53)和从透过了偏转棱镜的第2光束形成并显示干涉条纹的第2干涉条纹显示部(22,22a)。在光源装置的调整中,在光轴方向上调整光头装置(1,31)的准直器(5)的位置,使得在干涉条纹显示部(21,22,21a,22a)上显示了的干涉条纹的形状变得接近。 | ||
搜索关键词: | 光波 测定 装置 方法 光源 调整 | ||
【主权项】:
1.一种光波面测定装置,其特征在于,具有:分离元件,将入射的光束分离为第1光束和第2光束;第1干涉条纹显示部,配置在上述第1光束中,从上述第1光束形成并显示干涉条纹;第2干涉条纹显示部,具有与上述第1干涉条纹显示部相同的结构,配置在上述第2光束中,从上述第2光束形成并显示干涉条纹;以及波面旋转元件,配置在上述分离元件与上述第1干涉条纹显示部之间或上述分离元件与上述第2干涉条纹显示部之间的至少一方,使上述第1光束的波面或上述第2光束的波面中的至少一方以其光轴为中心旋转。
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