[发明专利]制造具有电阻尖端的半导体探针的方法无效
申请号: | 200380110246.4 | 申请日: | 2003-11-11 |
公开(公告)号: | CN1765011A | 公开(公告)日: | 2006-04-26 |
发明(设计)人: | 朴弘植;丁柱焕;洪承范 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 陶凤波;侯宇 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 提供了一种制造具有电阻尖端的半导体探针的方法。该方法包括:在掺杂第一杂质的基板上形成掩模层以及在未被掩模层覆盖的基板上形成用第二杂质重度掺杂的第一和第二半导体电极区,退火第一和第二半导体电极区,将第一和第二半导体电极区的第二参杂剂扩散到彼此面对的部分以在第一和第二半导体电极区的外边界形成用第二杂质轻度掺杂的电阻区,以预定的形状构图掩模层并蚀刻未被构图后的掩模层覆盖的基板的部分顶部表面来形成电阻尖端。 | ||
搜索关键词: | 制造 具有 电阻 尖端 半导体 探针 方法 | ||
【主权项】:
1.一种制造半导体探针的方法,该半导体探针包括悬臂和在所述悬臂的端部上形成的掺杂第一杂质的尖端,其中在所述尖端的峰部形成用第二杂质轻度掺杂的电阻区,在所述尖端的倾斜表面形成用所述第二杂质重度掺杂的第一和第二半导体电极区,所述第二杂质的极性与所述第一杂质的极性相反,所述方法包括:(a)在掺杂第一杂质的基板上形成条状掩模层以及通过在未被所述掩模层覆盖的基板上重度掺杂第二杂质形成第一和第二半导体电极区,所述第二杂质的极性与所述第一杂质的极性相反;(b)退火所述基板使所述第一和第二半导体电极区之间的距离变窄并在所述第一和第二半导体电极区的外边界形成用所述第二杂质轻度掺杂的电阻区;(c)以预定的形状构图所述掩模层以及蚀刻未被所述构图后的掩模层覆盖的所述基板的部分顶部表面来形成电阻尖端;以及(d)蚀刻所述基板的底部表面来形成具有在其端部形成的所述电阻尖端的悬臂。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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