[发明专利]采用绝缘体-半导体转换材料层作为沟道材料的场效应晶体管及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200380110309.6 申请日: 2003-12-30
公开(公告)号: CN1771607A 公开(公告)日: 2006-05-10
发明(设计)人: 金铉卓;姜光镛;尹斗协;蔡秉圭 申请(专利权)人: 韩国电子通信研究院
主分类号: H01L29/772 分类号: H01L29/772
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 陶凤波;侯宇
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明涉及一种包括绝缘体-半导体转换材料层的场效应晶体管。绝缘体-半导体转换材料层可以选择性地提供第一状态和第二状态,第一状态:当不施与栅场时,带电空穴就不注入到绝缘体-半导体转换材料层的表面;第二状态:当施与负性栅场时,大量的带电空穴被注入到绝缘体-半导体转换材料层的表面形成导电沟道。栅绝缘层形成于绝缘体-半导体转换材料层上。栅极形成于栅绝缘层上,给绝缘体-半导体转换材料层施与预定强度的负性栅场。源极和漏极在绝缘体-半导体转换材料层的两侧彼此相对布置,以便当绝缘体-半导体转换材料层处于第二状态时,电荷载流子能通过导电沟道流动。
搜索关键词: 采用 绝缘体 半导体 转换 材料 作为 沟道 场效应 晶体管 及其 制造 方法
【主权项】:
1、一种场效应晶体管,其包括:绝缘体-半导体转换材料层,其选择性地提供第一状态和第二状态,在第一状态中,当不施与栅场时,带电空穴不被引入到绝缘体-半导体转换材料层的表面;在第二状态中,当施与负栅场时,大量的带电空穴被引入到绝缘体-半导体转换材料层的表面,以形成导电沟道;栅绝缘层,其在该绝缘体-半导体转换材料层上形成;栅极,其在该栅绝缘层上形成,给该绝缘体-半导体转换材料层施与预定强度的负栅场;和源极和漏极,它们在该绝缘体-半导体转换材料层两侧彼此相对,当该绝缘体半导体材料层处于该第二状态时,移动带电载流子通过该导电沟道。
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