[发明专利]微分临界尺寸和覆盖计量装置以及测量方法

摘要

描述了一种在衬底上测量尺寸的方法，其中标板图形(455)具有以主间距周期P重复的标称特征尺寸，并具有垂直于主方向的预定变化。然后辐照形成在所述衬底上的所述标板图形(455)，以探测至少一个非零衍射级次。将所述非零衍射级次对印刷特征尺寸相对于标称特征尺寸的变化的响应用于确定在所述衬底上的所关心的尺寸，例如临界尺寸或覆盖。用于实施本发明的方法的装置(40)包括辐照源(410)、用于探测非零衍射级次的探测器(460)，以及用于相对于所述标板(455)定位所述源(410)的装置，以便在所述探测器(460)探测来自所述标板(455)的一个或多个非零衍射级次。

主权项

1.一种在衬底上测量尺寸的方法，包括以下步骤：提供标称图形，所述标称图形包括在主方向上具有主间距周期P的部件阵列，其中所述标称图形由沿所述主方向以所述周期P重复的标称特征尺寸表征，以及所述标称特征尺寸具有沿与所述主方向垂直的方向的预定变化；在所述衬底上形成对应于所述标称图形的标板图形，其中所述标板图形具有对应于所述标称特征尺寸的衬底特征尺寸；用由至少一个波长表征的辐射辐照所述标板图形，以从所述标板图形产生衍射级次；根据所述衬底特征尺寸相对于所述标称特征尺寸的偏差，提供所关心的尺寸与沿所述垂直方向探测到的一个或多个非零衍射级次的变化之间的关系；探测沿所述垂直方向的所述一个或多个非零衍射级次的所述变化；以及基于所述探测到的所述一个或多个非零衍射级次的变化，根据所述关系确定所关心的所述尺寸。