[发明专利]发光二极管结构有效

专利信息
申请号: 200410000148.1 申请日: 2004-01-06
公开(公告)号: CN1641889A 公开(公告)日: 2005-07-20
发明(设计)人: 许进恭;赖韦志 申请(专利权)人: 元砷光电科技股份有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00
代理公司: 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 代理人: 寿宁;张华辉
地址: 中国*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明是关于一种发光二极管结构,包括:一基底;一n型第一束缚层形成于基底上;一第一n型电极形成于第一束缚层上一凹陷区域;一第一主动层形成于第一束缚层上;一p型第二束缚层形成于第一主动层上;一穿隧层形成于第二束缚层上;一n型第三束缚层形成于穿隧层上;一第二n型电极形成于n型第三束缚层上一凹陷区域;一第二主动层形成于第三束缚层上;一p型第四束缚层形成于第二主动层上;一p型第三电极形成于第四束缚层上。其中穿隧层可包括一超晶格穿隧层,可免除p型第二束缚层与n型第三束缚层之间具有整流特性的pn结合面的形成。电压可透过一第二n型电极,施加给p型第二束缚层。本发明可容易单独控制两不同波长的主动层,而可以达到任意配色的功效。
搜索关键词: 发光二极管 结构
【主权项】:
1、一种发光二极管结构,其特征在于其包括:一基底;一第一束缚层,位于该基底上,含有一N型掺杂物;一第一电极,位于该第一束缚层上;一第一主动层,位于该第一束缚层上,经激发可发出一第一色光;一第二束缚层,位于该第一主动层之上,含有P型掺杂物;一穿隧层,位于该第二束缚层之上;一第三束缚层,位于该穿隧层之上,含有一N型掺杂物; 一N型第二电极,位于该第三束缚层的一凹陷区域; 一第二主动层,位于该第三束缚层上,经激发可发出一第二色光; 一第四束缚层,位于该第二主动层之上,含有一P型掺杂物;以及 一P型第三电极,位于该第四束缚层之上。
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