[发明专利]有机电激发光元件的薄膜制作方法及其成膜设备无效
| 申请号： | 200410001430.1 | 申请日： | 2004-01-08 |
| 公开（公告）号： | CN1642370A | 公开（公告）日： | 2005-07-20 |
| 发明（设计）人： | 李玉山;陈建良;陈纯鑑;陈来成 | 申请（专利权）人： | 翰立光电股份有限公司 |
| 主分类号： | H05B33/10 | 分类号： | H05B33/10;C23C14/04;C23C14/22 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 汤保平 |
| 地址： | 台湾省新竹科学工*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种有机电激发光元件的薄膜制作方法，其适于在基板上制作图案化薄膜层。有机电激发光元件的薄膜制作方法是先提供一遮罩，然后令基板与遮罩于非真空环境下进行对位，并将基板与遮罩固定为一体，之后，将固定为一体的基板与遮罩移至一真空环境下，并以遮罩为罩幕，在基板上形成图案化薄膜层。本发明主要是将遮罩与基板于非真空环境内完成对位之后，在将其移至一真空环境下进行成膜的动作，故此方法可大幅提高单位时间的产能。 | ||
| 搜索关键词： | 机电 激发 元件 薄膜 制作方法 及其 设备 | ||
【主权项】：
1.一种有机电激发光元件的薄膜制作方法，适于在一基板上制作一图案化薄膜层，其特征在于，该有机电激发光元件的薄膜制作方法包括：提供一遮罩；令该基板与该遮罩于一非真空环境下进行对位，并将该基板与该遮罩固定为一体；以及将固定为一体的该基板与该遮罩移至一真空环境下，并以该遮罩为罩幕，于该基板上形成该图案化薄膜层。
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