[发明专利]基片清洁装置和基片处理设备无效
| 申请号： | 200410001882.X | 申请日： | 2004-01-15 |
| 公开（公告）号： | CN1517161A | 公开（公告）日： | 2004-08-04 |
| 发明（设计）人： | 吉泽武德 | 申请（专利权）人： | 夏普株式会社 |
| 主分类号： | B08B5/00 | 分类号： | B08B5/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 李瑞海;王景刚 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了一种基片清洁装置，它包括：第一清洁室，该第一清洁室包括用于清洁设置于其中的基片的第一清洁部分；以及第二清洁室，该第二清洁室包括用于清洁设置于其中的基片的第二清洁部分。该第一清洁室叠置在第二清洁室上，这样，第一清洁室的至少一部分重叠在第二清洁室的至少一部分上。 | ||
| 搜索关键词： | 清洁 装置 处理 设备 | ||
【主权项】：
1.一种基片清洁装置，包括：第一清洁室，包括用于清洁放于其中的基片的第一清洁部分；以及第二清洁室，包括用于清洁放于其中的基片的第二清洁部分；其中，所述第一清洁室叠置在所述第二清洁室上，使所述第一清洁室的至少一部分重叠在所述第二清洁室的至少一部分上。
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