[发明专利]利用磁力的可拆卸模版窗口和支撑框架无效
| 申请号： | 200410002057.1 | 申请日： | 2004-01-09 |
| 公开（公告）号： | CN1534382A | 公开（公告）日： | 2004-10-06 |
| 发明（设计）人： | 丹尼尔·N·加尔伯特 | 申请（专利权）人： | ASML控股股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王永刚 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种用以在光刻系统中保持薄膜和模版间的光学缝隙的设备，该设备包含：确定第一和第二相对面的框架，利用磁耦合被连接至第一相对面的模版，和利用磁耦合被连接至第二相对面的薄膜。 | ||
| 搜索关键词： | 利用 磁力 可拆卸 模版 窗口 支撑 框架 | ||
【主权项】：
1.一种用于在光刻系统中保持薄膜和模版间的光学缝隙的设备，该设备包含：确定第一和第二相对面的框架；利用磁耦合被连接至所述第一相对面的模版；和利用磁耦合被连接至所述第二相对面的薄膜。
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