[发明专利]光致抗蚀剂脱除剂有效
| 申请号： | 200410002076.4 | 申请日： | 2004-01-09 |
| 公开（公告）号： | CN1517803A | 公开（公告）日： | 2004-08-04 |
| 发明（设计）人： | 池本一人 | 申请（专利权）人： | 三菱瓦斯化学株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42;G03F7/00;C11D3/00;C07H1/00;C07H5/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 任宗华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的光致抗蚀剂脱除剂包含由摩尔比为0.8或0.8以下的甲醛与烷醇胺进行反应而得到的反应产物。该光致抗蚀剂脱除剂能在低温下，在短时间内迅速除去涂敷在各种基体上的光致抗蚀剂层、经蚀刻后留下的光致抗蚀剂层以及经蚀刻磨光后的光致抗蚀剂残留物。该光致抗蚀剂脱除剂在除去光致抗蚀剂层和光致抗蚀剂残留物时不会对基体、导线材料、绝缘层等产生腐蚀作用，因而能实施精细加工和制成高精密电路。 | ||
| 搜索关键词： | 光致抗蚀剂 脱除 | ||
【主权项】：
1.一种光致抗蚀剂脱除剂，该脱除剂包含由摩尔比为0.8或低于0.8的甲醛与烷醇胺进行反应得到的反应产物。
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