[发明专利]LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图形的形成方法有效
| 申请号： | 200410002210.0 | 申请日： | 2004-01-15 |
| 公开（公告）号： | CN1519648A | 公开（公告）日： | 2004-08-11 |
| 发明（设计）人： | 大内康秀;中山一彦;丸山健治;土井宏介 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/022 | 分类号： | G03F7/022 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李香兰 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种LCD制造用的抗蚀剂材料，该抗蚀剂材料是LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物，其特征在于，包括(A)碱可溶性树脂，(B)聚苯乙烯换算质均分子量为300－1300的低分子量酚醛清漆树脂和萘醌二叠氮磺酸化合物的、平均酯化率为30－90％的酯化反应生成物，(C)分子量为1000以下的含有酚性羟基的化合物，(D)有机溶剂。根据本发明的抗蚀剂组合物，即使在低NA条件下，也能够以高的析像度形成抗蚀图形，优选线性良好抗蚀剂组合物。 | ||
| 搜索关键词： | lcd 制造 用正型光致抗蚀剂 组合 以及 图形 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物，其特征在于，包括(A)碱可溶性树脂，(B)聚苯乙烯换算质均分子量为300-1300的低分子量酚醛清漆树脂和萘醌二叠氮磺酸化合物的、平均酯化率为30-90％的酯化反应生成物， (C)分子量为1000以下的含有酚性羟基的化合物，(D)有机溶剂。
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