[发明专利]抗蚀剂组合物无效
| 申请号： | 200410002262.8 | 申请日： | 2004-01-16 |
| 公开（公告）号： | CN1517794A | 公开（公告）日： | 2004-08-04 |
| 发明（设计）人： | 小黑大;林武夫;越后雅敏 | 申请（专利权）人： | 三菱瓦斯化学株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 陈昕 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种不仅可以利用i线、g线等紫外线、而且也可以利用可见光、KrF等准分子激光、电子束、X射线、离子束等放射线，具有高灵敏度、高分辨率、高耐热性且溶剂可溶性的抗蚀剂组合物。本发明的抗蚀剂组合物的特征在于，其中含有一种以上的满足下述(a)～(e)全部条件的抗蚀剂化合物以及一种以上的通过照射选自可见光、紫外线、准分子激光、电子束、X射线和离子束中的任一种放射线而可以直接或间接地产生酸或碱的酸或碱产生剂：(a)分子中具有至少1个酸离解性官能团；(b)分子中具有至少1种选自脲基、尿烷基、酰胺基和酰亚胺基中的官能团；(c)分子量为500～5000；(d)具有支链结构；(e)满足式3≤F≤5(式中，F表示总原子数/(总碳原子数－总氧原子数))；(f)氮元素含有率为1～20质量％。 | ||
| 搜索关键词： | 抗蚀剂 组合 | ||
【主权项】：
1.一种抗蚀剂组合物，其特征在于，其中含有一种以上的满足下述(a)～(f)全部条件的抗蚀剂化合物以及一种以上的通过照射选自可见光、紫外线、准分子激光、电子束、X射线和离子束中的任一种放射线而可以直接或间接地产生酸或碱的酸或碱产生剂，(a)分子中具有至少1个酸离解性官能团；(b)分子中具有至少1种选自脲基、尿烷基、酰胺基和酰亚胺基中的官能团；(c)分子量为500～5000；(d)具有支链结构；(e)满足式3≤F≤5，式中，F表示总原子数/(总碳原子数-总氧原子数)；(f)氮元素含有率为1～20质量％。
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