[发明专利]用于低相干性测量和高相干性测量的干涉仪设备及方法有效

专利信息
申请号: 200410002479.9 申请日: 2004-01-20
公开(公告)号: CN1517672A 公开(公告)日: 2004-08-04
发明(设计)人: 植木伸明 申请(专利权)人: 富士写真光机株式会社
主分类号: G01B9/02 分类号: G01B9/02;G01B11/30
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 蒋世迅
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 斐索型干涉仪设备用于低相干性测量和高相干性测量。在利用低相干光通量辐照参考面和样本时,光程匹配通道把低相干光通量分成第一光程和第二光程,而传输通过这两个光程的各自光通量之间光程长差等于参考面与样本之间光程的两倍。在利用高相干光通量辐照参考面和样本时,在与低相干光通量同轴的位置上,使高相干光通量入射到光程匹配通道的样本侧。
搜索关键词: 用于 相干性 测量 干涉仪 设备 方法
【主权项】:
1.一种用于低相干性测量和高相干性测量的干涉仪设备,该设备是斐索型干涉仪设备,它适合于利用光源的光辐照参考面,利用透射通过参考面的光辐照与参考面隔开预定距离的样本,并根据参考面与样本之间光的干涉,产生该样本的波前信息;其中,在利用从光源输出的低相干光通量实施低相干性测量时,利用干涉方式测量样本,使低相干光通量传输通过把低相干光通量分成第一光程和第二光程的光程匹配通道,而传输通过这两个光程的各自光通量之间光程长差等于干涉仪设备的参考面与样本之间光程的两倍;和其中,在利用从光源输出的高相干光通量实施高相干性测量时,利用干涉方式测量样本,在利用高相干光通量辐照参考面和样本时,使高相干光通量在与低相干光通量同轴的位置上至少入射到光程匹配通道的样本侧。
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