[发明专利]平型压盘和成像设备有效
| 申请号： | 200410003637.2 | 申请日： | 2004-02-04 |
| 公开（公告）号： | CN1519130A | 公开（公告）日： | 2004-08-11 |
| 发明（设计）人： | 竹内胜;竹本贵俊 | 申请（专利权）人： | 兄弟工业株式会社 |
| 主分类号： | B41J11/00 | 分类号： | B41J11/00;B41J13/08;B41J15/04;B65H7/14 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 武玉琴;顾红霞 |
| 地址： | 日本爱知*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种用于具有侧边探测器的成像设备中的平型压盘，侧边探测器探测在预定方向上被输送的记录介质的侧边。平型压盘具有一个表面，在它上面支撑着被输送的记录介质，它面对侧边探测器放置。侧边探测器具有由面对记录介质放置的光发射装置和光接收装置。侧边探测器在与预定方向垂直的方向上移动以从光发射装置发射光束的同时，侧边探测器探测记录纸张的侧边。在这样的平型压盘中，将一种防反射处理施加到至少与标准尺寸记录介质的侧边附近对应的表面上，防反射处理能够减少或防止从光发射装置发射的、在该表面被反射的并且进入到光接收装置中的光量。 | ||
| 搜索关键词： | 平型压盘 成像 设备 | ||
【主权项】：
1.一种用于成像设备中的平型压盘，该成像设备包括侧边探测器，侧边探测器探测在预定方向上被输送的记录介质的侧边，侧边探测器具有面对记录介质放置的光发射装置和光接收装置，侧边探测器在与预定方向垂直的方向上移动以从光发射装置发射光束的同时，侧边探测器探测记录介质的侧边，平型压盘包括：面对记录介质的表面，并且在该表面上面支撑记录介质；和一种防反射处理，它能够减少从光发射装置发射的、在该表面上被反射到光接收装置中的光量，其中至少该表面上被光发射装置发出的光束照射的部分要经过防反射处理。
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