[发明专利]包括每个有浮动栅和控制栅极的MOS晶体管的半导体存储器无效

专利信息
申请号: 200410003680.9 申请日: 2004-02-05
公开(公告)号: CN1540759A 公开(公告)日: 2004-10-27
发明(设计)人: 梅沢明;长谷川武裕 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: H01L27/105 分类号: H01L27/105;H01L27/115;H01L29/78;H01L29/788;H01L23/52
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 付建军
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种半导体存储器件包括多个存储单元(MC),多个局部位线(LBL),全局位线(WGBL,RGBL),第一开关元件(SEL),和保持电路(60)。存储单元(MC)包括第一(MT)和第二MOS晶体管(ST)。第一MOS晶体管(MT)具有电荷积聚层(150)和控制栅极(170)。第二MOS晶体管(ST)具有连接到第一MOS晶体管(MT)的电流通路的一端的其电流通路的一端。局部位线(LBL)连接第一MOS晶体管(MT)的电流通路的另一端。第一开关元件(SEL)在局部位线(LBL)和全局位线(WGBL,RGBL)之间连接。保持电路(60)连接到全局位线(WGBL,RGBL),并且保存待写入到存储单元(MC)中的数据。
搜索关键词: 包括 每个 浮动 控制 栅极 mos 晶体管 半导体 存储器
【主权项】:
1.一种半导体存储器件,其特征在于包括:多个存储单元(MC),每个存储单元包括具有电荷积聚层(150)和控制栅极(170)的第一MOS晶体管(MT),以及其电流通路的一端连接到第一MOS晶体管(MT)的电流通路的一端的第二MOS晶体管(ST);多个局部位线(LBL0,LBL1),每个局部位线连接第一MOS晶体管(MT)的电流通路的另一端;全局位线(WGBL,RGBL),局部位线(LBL)的两个或多个共同地连接到其上;第一开关(SEL)元件,其在局部位线(LBL)和全局位线(WGBL,RGBL)之间连接;以及保持电路(60),其连接到全局位线(WGBL)并且保存待写入到存储单元(MC)中的数据。
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