[发明专利]包括每个有浮动栅和控制栅极的MOS晶体管的半导体存储器无效
申请号: | 200410003680.9 | 申请日: | 2004-02-05 |
公开(公告)号: | CN1540759A | 公开(公告)日: | 2004-10-27 |
发明(设计)人: | 梅沢明;长谷川武裕 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
主分类号: | H01L27/105 | 分类号: | H01L27/105;H01L27/115;H01L29/78;H01L29/788;H01L23/52 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 付建军 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种半导体存储器件包括多个存储单元(MC),多个局部位线(LBL),全局位线(WGBL,RGBL),第一开关元件(SEL),和保持电路(60)。存储单元(MC)包括第一(MT)和第二MOS晶体管(ST)。第一MOS晶体管(MT)具有电荷积聚层(150)和控制栅极(170)。第二MOS晶体管(ST)具有连接到第一MOS晶体管(MT)的电流通路的一端的其电流通路的一端。局部位线(LBL)连接第一MOS晶体管(MT)的电流通路的另一端。第一开关元件(SEL)在局部位线(LBL)和全局位线(WGBL,RGBL)之间连接。保持电路(60)连接到全局位线(WGBL,RGBL),并且保存待写入到存储单元(MC)中的数据。 | ||
搜索关键词: | 包括 每个 浮动 控制 栅极 mos 晶体管 半导体 存储器 | ||
【主权项】:
1.一种半导体存储器件,其特征在于包括:多个存储单元(MC),每个存储单元包括具有电荷积聚层(150)和控制栅极(170)的第一MOS晶体管(MT),以及其电流通路的一端连接到第一MOS晶体管(MT)的电流通路的一端的第二MOS晶体管(ST);多个局部位线(LBL0,LBL1),每个局部位线连接第一MOS晶体管(MT)的电流通路的另一端;全局位线(WGBL,RGBL),局部位线(LBL)的两个或多个共同地连接到其上;第一开关(SEL)元件,其在局部位线(LBL)和全局位线(WGBL,RGBL)之间连接;以及保持电路(60),其连接到全局位线(WGBL)并且保存待写入到存储单元(MC)中的数据。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的