[发明专利]投影曝光用掩模、投影曝光装置、及投影曝光方法无效
| 申请号： | 200410003753.4 | 申请日： | 2004-01-30 |
| 公开（公告）号： | CN1519652A | 公开（公告）日： | 2004-08-11 |
| 发明（设计）人： | 饭塚和央;磯端纯二;田中信义 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 李德山 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明公开一种用于将连续形状图案和不连续形状图案曝光到被曝光部件的小型而且低成本的投影曝光用掩模。投影曝光用掩模具有用于将连续图案曝光到被曝光部件的第一掩模图案和用于将不连续图案曝光到上述被曝光部件的第二掩模图案。上述第一和第二掩模图案中的一方的掩模图案为反射型掩模图案，另一方的掩模图案为透过型掩模图案。 | ||
| 搜索关键词： | 投影 曝光 用掩模 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种投影曝光用掩模，具有用于将连续图案曝光到被曝光部件的第一掩模图案和用于将不连续图案曝光到上述被曝光部件的第二掩模图案，其特征在于：上述第一和第二掩模图案中的一方的掩模图案为反射型掩模图案，另一方的掩模图案为透过型掩模图案。
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