[发明专利]涡流校正方法与磁共振成像设备无效
| 申请号： | 200410003814.7 | 申请日： | 2004-02-06 |
| 公开（公告）号： | CN1518949A | 公开（公告）日： | 2004-08-11 |
| 发明（设计）人： | 植竹望 | 申请（专利权）人： | GE医疗系统环球技术有限公司 |
| 主分类号： | A61B5/055 | 分类号： | A61B5/055;G01R33/38 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 栾本生;张志醒 |
| 地址： | 美国威*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 为了在有限的输出范围内进行最佳的涡流校正，计算用于对梯度磁场进行涡流校正的一个校正值(501－505)；如果计算的校正值不超过预定的上限值，则使用这个计算的值对于梯度磁场进行校正(507、521、525)；如果计算的校正值超过预定的上限值，则使用不大于这个上限值的多个候选校正值模拟受涡流影响的多个梯度磁场(507－517)，并使用能够获得相对来说最佳的梯度磁场的候选校正值对梯度磁场进行校正(519－525)。 | ||
| 搜索关键词： | 涡流 校正 方法 磁共振 成像 设备 | ||
【主权项】：
1.一种涡流校正方法，包括：计算用于对梯度磁场进行涡流校正的一个校正值；如果计算的校正值不超过预定的上限值，则使用这个计算的值对于梯度磁场进行校正；如果计算的校正值超过预定的上限值，则使用不大于这个上限值的多个候选校正值模拟受涡流影响的多个梯度磁场，并使用能够获得相对来说最佳的梯度磁场的候选校正值对梯度磁场进行校正。
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