[发明专利]显示装置的沉积掩模及其制造方法有效
| 申请号： | 200410003872.X | 申请日： | 2004-02-06 |
| 公开（公告）号： | CN1534383A | 公开（公告）日： | 2004-10-06 |
| 发明（设计）人： | 金利坤;金泰亨 | 申请（专利权）人： | 三星SDI株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/00;G09F9/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 李晓舒;魏晓刚 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明公开了一种显示装置的沉积掩模及其制造方法。其易于保证定位精度和图形尺寸精度，并适用于高分辨率显示装置。本发明的沉积掩模具有至少一个图形掩模，其具有与将形成在衬底上的图形相同的图形；以及边框掩模，其具有至少一个开口。图形掩模在对应于开口的边框掩模区域被分别固定到边框掩模。沉积掩模通过制备具有与将形成在衬底上的图形相同的图形的至少一个图形掩模和具有至少一个开口的边框掩模制作而成。该方法还包括将图形掩模与边框掩模的开口对准并将与开口对准的图形掩模固定到边框掩模上。 | ||
| 搜索关键词： | 显示装置 沉积 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种沉积掩模，包括：至少一个图形掩模，具有与将形成在衬底上的图形相同的图形；以及边框掩模，具有至少一个开口，其中所述至少一个图形掩模被分别固定到边框掩模上，使得通过所述开口露出所述至少一个图形掩模。
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