[发明专利]适用于非均质纹理的单层缩小过滤理论有效
| 申请号： | 200410004647.8 | 申请日： | 2004-02-20 |
| 公开（公告）号： | CN1624723A | 公开（公告）日： | 2005-06-08 |
| 发明（设计）人： | 廖群峰;洪洲 | 申请（专利权）人： | 威盛电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G06T15/20 | 分类号： | G06T15/20 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 寿宁;张华辉 |
| 地址： | 中国*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明是关于一种适用于非均质纹理的单层缩小过滤理论。本发明为一种执行非均质纹理缩小贴图的方法。该方法包括决定用于将被贴图影像的一组目标像素的支持区，并且将支持区映像至通常为椭圆的一纹理贴图区。决定对椭圆每一轴的取样个数，并且在该些样本上执行过滤函数，藉以求得最终颜色值。对四个绘点而言，该过滤函数为每个绘点颜色值的加权总和，其中加权值是根据部分的详细程度(LOD)与部分的U或V坐标所决定。 | ||
| 搜索关键词： | 适用于 非均质 纹理 单层 缩小 过滤 理论 | ||
【主权项】：
1、一种执行非均质缩小贴图(mip-mapping)的方法，其特征在于其包括以下步骤：将一目标像素所需的纹理，映像至在一较高分辨率纹理数组中的一或多绘点，在该较高分辨率纹理数组中的一支持区是由一般是为一椭圆的一长轴与一短轴所定义，而且其中一详细程度(LOD)是由该短轴计算而得；以及使用来自该较高分辨率纹理数组中的该些绘点，沿着一轴执行一过滤函数，藉以仿真使用来自该较高分辨率纹理数组与具有一较低分辨率的一第二绘点数组的该些绘点的一过滤效果。
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