[发明专利]投影机有效

专利信息
申请号: 200410004692.3 申请日: 2004-03-11
公开(公告)号: CN1530707A 公开(公告)日: 2004-09-22
发明(设计)人: 西田和弘;植原克幸 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: G02F1/1333 分类号: G02F1/1333;G03B21/00
代理公司: 北京市中咨律师事务所 代理人: 李峥;于静
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种虽然结构不要求较高的定位精度、但却能够可靠地实现对比度的提高的投影机。该投影机包括:光源(100);第一透镜阵列(131),利用纵横配置的多个小透镜(131A)将从光源(100)出射的光分割成多个部分光束;第二透镜阵列(132),具有与第一透镜阵列(131)的多个小透镜(131A)分别对应的多个小透镜(132A);重叠透镜(134),使从第一透镜阵列(131)和第二透镜阵列(132)射出的多个部分光束重叠在液晶面板(170)上;以及投射透镜(190),投射由液晶面板(170)调制的光,其中,具有形状与第二透镜阵列(132)的外形形状大致相似的开口(201)的光圈装置(200)被配置在与上第二透镜阵列(132)共轭的位置的附近。
搜索关键词: 投影机
【主权项】:
1.一种投影机,包括:光源;第一透镜阵列,利用纵横配置的多个小透镜将从上述光源出射的光分割成多个部分光束;第二透镜阵列,具有与上述第一透镜阵列的上述多个小透镜分别对应的多个小透镜;重叠透镜,使从上述第一透镜阵列和第二透镜阵列射出的多个部分光束重叠在光调制装置上;以及投射透镜,投射被上述光调制装置调制的光,其特征在于:具有形状与上述第二透镜阵列的外形形状大致相似的开口的光圈装置被配置在与上述第二透镜阵列共轭的位置的附近。
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