[发明专利]二维光子晶体腔及通路加/减滤波器有效
| 申请号： | 200410004875.5 | 申请日： | 2004-02-10 |
| 公开（公告）号： | CN1521524A | 公开（公告）日： | 2004-08-18 |
| 发明（设计）人： | 野田进;浅野卓;赤羽良启 | 申请（专利权）人： | 京都大学长;住友电气工业株式会社 |
| 主分类号： | G02B6/12 | 分类号： | G02B6/12;G02B6/24;H04B10/12 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 李强 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 在2D光子晶体中，可以制得高Q因子的腔，其中高Q腔与波导的组合提供了具有高分辨率的通路加/减滤波器。在由2D光子晶体内的点缺陷构成的腔中，2D光子晶体由一种折射率低于切片的并且尺寸和形状一致的低折射率材料(2)以限定在切片(1)中的二维点阵的布局构成。点缺陷(4)包含大量彼此相邻的三个或多个阵点，在这些阵点中不分布低折射率材料(2)；应布置成对应于至少一个最接近点缺陷(4)的阵点的低折射率材料(2)布置成离开该阵点预定的距离。 | ||
| 搜索关键词： | 二维 光子 晶体 通路 滤波器 | ||
【主权项】：
1.一种由二维光子晶体内的点缺陷组成的腔，该腔在一种二维光子晶体中，该晶体由折射率小于切片的低折射率材料以限定在切片中的具有同一尺寸和形状的二维点阵分布构成，其特征在于所述的点缺陷包含所述点阵中的彼此相邻的多个阵点，并且在所述的多个阵点中所述分布不包含所述低折射率材料；和在所述的分布中，至少一种低折射率材料从至少一个最接近所述点缺陷的阵点移开预定的距离，而其中所述的至少一种低折射率材料在其他情况下应是对应于那些最接近点缺陷的阵点中的至少一个地分布。
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