[发明专利]用于相移掩模的嵌入式蚀刻阻止层无效
| 申请号： | 200410005084.4 | 申请日： | 2004-01-13 |
| 公开（公告）号： | CN1530748A | 公开（公告）日： | 2004-09-22 |
| 发明（设计）人： | K·库明斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种用于相移掩模的嵌入式蚀刻阻止层。衰减相移掩模和交替相移掩模通过在掩模上图案的相邻特征之间透射的辐射中引入相移来提高装置的分辨率。相移掩模具有一个可蚀刻的无机材料层。该无机材料层形成在具有玻璃或石英层和蚀刻阻止层的掩模坯体上。由于蚀刻阻止层由不被蚀刻处理蚀刻的材料形成，蚀刻阻止层在无机材料层中提供均匀的图案蚀刻深度。相移掩模可以用一个衰减材料层代替树脂无机聚合物层。相移掩模的图案的特征也可以用光学透明材料或半透明材料或者用具有选定的折射率和介电常数的不透明材料填充，以减少图案的特征侧壁的边缘效应。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 相移 嵌入式 蚀刻 阻止 | ||
【主权项】：
1.一种用于光刻投影装置的构图装置，包括：一玻璃或石英层；一树脂聚合物层；和和一个在玻璃或石英层与树脂聚合物层之间的蚀刻阻止层，其中，图案形成在树脂聚合物层中，并且玻璃或石英层与树脂聚合物层之间与图案相应的区域中不设蚀刻阻止层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200410005084.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
