[发明专利]磁控溅射装置无效
| 申请号： | 200410005459.7 | 申请日： | 2004-02-19 |
| 公开（公告）号： | CN1603456A | 公开（公告）日： | 2005-04-06 |
| 发明（设计）人： | 井关隆之 | 申请（专利权）人： | 日本胜利株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 谢丽娜;关兆辉 |
| 地址： | 日本神奈*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供一种结构简单，具有使用效率高的靶的磁控溅射装置。由以下部分构成：真空腔(2)；阴极(4)，位于所述真空腔(2)内部，保持靶(3)；阳极(6)，位于阴极(4)的上方，保持与阴极(4)的靶(3)侧相对的基板(5)；永久磁铁(7)，位于阴极(4)的下方，用于产生磁场；和旋转控制装置(12)，以靶(3)的中心为轴，使所述永久磁铁(7)旋转，永久磁铁(7)由以下部分构成：底部(8)，用于固定磁铁；永久磁铁(9)，固定于底部(8)的中央部位；和永久磁铁(10)，固定于底部(8)的端部，环绕永久磁铁(9)，磁极的极性与永久磁铁(9)相反并且磁场强度比永久磁铁(9)弱，此外，永久磁铁(7)的上部为将圆筒斜向切断的形状。 | ||
| 搜索关键词： | 磁控溅射 装置 | ||
【主权项】：
1.一种磁控溅射装置，由以下部分构成：真空腔；阴极，位于所述真空腔内部，保持靶；阳极，位于所述阴极的上方，保持与所述阴极的靶侧相向的基板；永久磁铁，位于所述阴极的下方，用于产生磁场；和旋转控制装置，以靶的大致中心为轴，使所述永久磁铁旋转，其特征在于：所述永久磁铁由以下部分构成：底部，用于固定磁铁；第一永久磁铁，被固定于所述底部的中央部位；和圆环形状的第二永久磁铁，被固定于所述底部的端部，环绕所述第一永久磁铁，磁极的极性与所述第一永久磁铁相反，并且磁场强度比所述第一永久磁铁弱；此外，所述永久磁铁的上部为斜向切断的形状，所述永久磁铁没有相对所述靶倾斜设置，而被设置在所述旋转控制装置的旋转轴上。
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