[发明专利]光刻装置和检测物体的正确夹紧的方法无效
| 申请号： | 200410005520.8 | 申请日： | 2004-02-11 |
| 公开（公告）号： | CN1521567A | 公开（公告）日： | 2004-08-18 |
| 发明（设计）人： | H·A·J·尼霍夫 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00;G06F17/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 郑建晖 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 公开了一种光刻装置(1)，其包括可夹紧物体(W；MA；5)的支撑结构(MT；WT)。支撑结构(MT；WT)和夹紧于其上的物体(W；MA；5)形成了隔腔。供给装置(11)与隔腔相连并为隔腔提供流体。供给装置(11)包括仪表(15)，其可测量流体的流速或压力中至少一个的变化。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 检测 物体 正确 夹紧 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻装置(1)，包括：-至少一个可在其上夹紧物体(W；MA；5)的支撑结构(MT；WT)，所述支撑结构(MT；WT)和夹紧在所述支撑结构(MT；WT)上的所述物体(W；MA；5)形成了隔腔，和-与所述隔腔相通的供给装置(11)，所述供给装置(11)构造并设置成可为所述隔腔提供流体，其中，所述供给装置(11)包括设置成可测量流体流速和流体压力中的至少一个随时间的变化的仪表(15)，以便检测所述物体(W；MA；5)是否被正确地夹紧在所述支撑结构(MT；WT)上。
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