[发明专利]半导体元件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200410005828.2 申请日: 1999-03-16
公开(公告)号: CN1532942A 公开(公告)日: 2004-09-29
发明(设计)人: 齐藤惠志;佐野政史 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: H01L29/04 分类号: H01L29/04;H01L31/0368;H01L31/075;H01L31/20;H01L21/205;C23C16/22
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 王永刚
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 在包含微晶态半导体的半导体元件中,在微晶态晶粒内提供半导体结。而且在包含微晶态半导体的半导体元件中,提供不同直径的微晶态晶粒作为混合物,以便形成半导体层。因此,半导体结的不连续性得以改善,从而改善半导体元件的特性,耐用性,耐热性。半导体层中的变形也降低。
搜索关键词: 半导体 元件 及其 制造 方法
【主权项】:
1、半导体元件,包含微晶态半导体,具有不同颗粒直径的微晶态晶粒以混合物出现的区域。
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