[发明专利]半导体元件及其制造方法有效
申请号: | 200410005828.2 | 申请日: | 1999-03-16 |
公开(公告)号: | CN1532942A | 公开(公告)日: | 2004-09-29 |
发明(设计)人: | 齐藤惠志;佐野政史 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | H01L29/04 | 分类号: | H01L29/04;H01L31/0368;H01L31/075;H01L31/20;H01L21/205;C23C16/22 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 王永刚 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 在包含微晶态半导体的半导体元件中,在微晶态晶粒内提供半导体结。而且在包含微晶态半导体的半导体元件中,提供不同直径的微晶态晶粒作为混合物,以便形成半导体层。因此,半导体结的不连续性得以改善,从而改善半导体元件的特性,耐用性,耐热性。半导体层中的变形也降低。 | ||
搜索关键词: | 半导体 元件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1、半导体元件,包含微晶态半导体,具有不同颗粒直径的微晶态晶粒以混合物出现的区域。
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