[发明专利]半导体装置及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200410007206.3 申请日: 2004-02-27
公开(公告)号: CN1532938A 公开(公告)日: 2004-09-29
发明(设计)人: 龟山工次郎;三田清志 申请(专利权)人: 三洋电机株式会社;关东三洋半导体股份有限公司
主分类号: H01L27/14 分类号: H01L27/14;H01L27/15;H01L31/00;H01L33/00;H01L23/28;H04N1/028
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 李贵亮;杨梧
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种半导体装置及其制造方法,其为薄型及小型,且机械强度及耐湿性优异。半导体装置(10A)由密封树脂(13)密封具有受光部或发光部的光半导体元件(14),形成包覆光半导体元件(14)的表面的包覆层(12)由密封树脂(13)的表面露出的结构。因此,和利用透明树脂密封整体的现有例比较,可以形成薄的密封树脂(13),可以使装置整体的厚度变薄。而且使用混入了填料的密封树脂,构成半导体装置(10)。由此可以形成具有优异的机械强度和耐湿性的半导体装置。
搜索关键词: 半导体 装置 及其 制造 方法
【主权项】:
1、一种半导体装置,具有受光部或发光部的光半导体元件由密封树脂密封,其特征在于,包覆所述光半导体元件表面的包覆层由所述密封树脂的表面露出。
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