[发明专利]形成导电凸块的方法及具有如此形成的导电凸块的装置无效

专利信息
申请号: 200410007390.1 申请日: 2004-03-02
公开(公告)号: CN1665006A 公开(公告)日: 2005-09-07
发明(设计)人: 沈育浓 申请(专利权)人: 沈育浓
主分类号: H01L21/60 分类号: H01L21/60;H01L21/28;H01L21/768
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 李树明
地址: 台湾省*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种形成导电凸块的方法及具有如此形成的导电凸块的装置,该具有导电凸块的装置包含:一半导体晶片,该晶片具有一焊垫安装表面及数个安装于该表面上的焊垫;及数个各形成于一对应的焊垫的中央部分上的导电凸块,每一导电凸块包括一形成于一对应的焊垫上的凸点及一形成于该对应的凸点上且从该对应的凸点延伸到对应的焊垫的表面上的金属层。本发明的形成导电凸块的方法及具有如此形成的导电凸块的装置,具有制造程序简单、符合环保要求、体积小、成本低等优点。
搜索关键词: 形成 导电 方法 具有 如此 装置
【主权项】:
1.一种形成导电凸块的方法,其特征在于:包含如下的步骤:(1)提供一半导体晶片,该半导体晶片具有一焊垫安装表面及数个安装于该焊垫安装表面上的焊垫;(2)以光阻材料于该半导体晶片的整个焊垫安装表面上形成一绝缘层,该绝缘层是借着使用光罩的曝光和化学冲洗处理来形成有数个暴露该晶片的对应的焊垫的中央部分的穿孔;(3)以光阻材料于该绝缘层上形成一覆盖层且将该绝缘层的穿孔覆盖,于该覆盖层上借着使用光罩的曝光和化学冲洗处理形成数个暴露对应的焊垫的中央部分的暴露孔,由每一暴露孔所暴露的焊垫中央部分的面积是比由该穿孔所暴露的焊垫中央部分的面积小;(4)在覆盖层的暴露孔形成之后,于该覆盖层的每一个暴露孔内填注凸点形成材料,以使每一个暴露孔内的凸点形成材料形成一对应焊垫上的凸点;及(5)把该覆盖层移去且在每一焊垫上的凸点上以电镀方式形成一金属层,以形成导电凸块,该金属层是从对应的凸点延伸到对应的焊垫表面上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于沈育浓,未经沈育浓许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200410007390.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top