[发明专利]曝光装置、方法、薄膜晶体管的制造方法、显示装置无效
| 申请号： | 200410007397.3 | 申请日： | 2004-03-02 |
| 公开（公告）号： | CN1530773A | 公开（公告）日： | 2004-09-22 |
| 发明（设计）人： | 入口千春 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | G03H1/22 | 分类号： | G03H1/22 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李香兰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及曝光装置、方法、薄膜晶体管的制造方法、显示装置。本发明的目的是提供为了能够高密度地形成不同的曝光区域，并且使整个装置的尺寸小而具有适当构成的曝光装置。在用于使任意的曝光区域曝光的曝光装置中，备有具有用于使曝光区域曝光的预定光束宽度(B)的曝光光束的照射装置(280)，具有至少与曝光光束的光束宽度相当的宽度的遮光板(S)、和通过驱动遮光板遮断曝光光束的一部分或全部，阻止曝光光束(B)到达曝光区域(DA)以外的区域的驱动装置(110)。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 方法 薄膜晶体管 制造 显示装置 | ||
【主权项】：
1.一种使任意的曝光区域曝光的曝光装置，其特征在于：它备有具有使上述曝光区域曝光的预定光束宽度的曝光光束的照射装置，具有至少与曝光光束的光束宽度相当的宽度的遮光板、和通过驱动上述遮光板遮断上述曝光光束的一部分或全部，阻止该曝光光束到达上述曝光区域以外的区域的驱动装置。
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