[发明专利]激光辐照方法,用于制造半导体器件的方法,以及激光辐照系统有效
申请号: | 200410007410.5 | 申请日: | 2004-01-21 |
公开(公告)号: | CN1518077A | 公开(公告)日: | 2004-08-04 |
发明(设计)人: | 田中幸一郎;矶部敦生;森若智昭 | 申请(专利权)人: | 株式会社半导体能源研究所 |
主分类号: | H01L21/324 | 分类号: | H01L21/324;B23K26/00;H01S3/16 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 王岳;梁永 |
地址: | 日本神奈*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 在一种激光辐照系统中,由于高速移动笨重的扫描工作台,因此导致振动。当振动传送到装配有形成光束斑点和系统的光学系统的振动绝缘体时,在基板上形成的激光辐照轨迹就会沿振动的反射波动,该轨迹就不再是线性。本发明的一个目的是抑制因这种振动造成的辐照轨迹的波动。在作为要被辐照表面的半导体膜123之上提供光屏蔽膜122。当提供光屏蔽膜122时,就会显著地遮蔽具有低能量密度的一部分入射光束121。如上所述,提供光屏蔽膜122就能够增大半导体膜中的晶粒尺寸,而不用形成类似于用准分子激光器进行激光晶化的情况下形成的晶体的状态。为了使衍射影响最小,优选光屏蔽膜122尽可能薄。 | ||
搜索关键词: | 激光 辐照 方法 用于 制造 半导体器件 以及 系统 | ||
【主权项】:
1、一种激光辐照方法,用于将光束斑点辐照到要被辐照物体,包括:将从激光振荡器发射的激光束整形为要被辐照表面上的光束斑点;以及当辐照光束斑点时,相对地在光束斑点的短轴方向对扫描工作台进行扫描,其中光束斑点具有线性形状和椭圆形状的一种形状,其中在扫描工作台之上提供的要被辐照物体的表面是要被辐照表面,其中当被辐照物体和光束斑点的位置被控制以便利用要被辐照物体之上提供的光屏蔽膜来遮蔽一部分光束斑点时,辐照光束斑点,以及其中该部分光束斑点比光束斑点的中心具有更低的能量密度。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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