[发明专利]掩膜及其制法、掩膜制造装置、发光材料的成膜方法有效
| 申请号： | 200410007838.X | 申请日： | 2004-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN1526850A | 公开（公告）日： | 2004-09-08 |
| 发明（设计）人： | 中楯真 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;H05B33/10 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李香兰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供一种掩膜及其制造方法、制造装置、发光材料的成膜方法、电光学装置及电子仪器。本发明的掩膜：具备形成了开口的基体材料；形成有多个贯通孔，同时对应于上述开口而与上述基体材料接合的掩膜构件；和以所定间隔保持上述基体材料与上述掩膜构件的隔离子。 | ||
| 搜索关键词： | 及其 制法 制造 装置 发光 材料 方法 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜，其中，具备：形成了开口的基体材料；形成多个贯通孔，同时对应于上述开口而与上述基体材料接合的掩膜构件；和以所定间隔保持上述基体材料与上述掩膜构件的隔离子。
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