[发明专利]光刻设备及器件制造方法有效
| 申请号： | 200410008081.6 | 申请日： | 2004-03-10 |
| 公开（公告）号： | CN1530750A | 公开（公告）日： | 2004-09-22 |
| 发明（设计）人： | S·A·J·霍尔;J·C·科普特;E·R·鲁普斯特拉;P·维雷格德瓦特 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/00;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种具有高驱动力、高效率和低法向力的直线马达，包括两个相对磁体轨道11、12和电枢13，电枢包括三个开路线圈组。直线马达可以用于在光刻投影设备中驱动一工作台，特别是掩模台。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻投影设备，包括：用于提供辐射投影光束的辐射系统；用于支撑构图装置的支撑结构，所述构图装置用于根据所需的图案将投影光束图案化；用于保持基底的基底台；用于将带图案的光束投影到基底的目标部分上的投影系统；用于移动所述支撑结构和所述基底台之一的直线马达；其特征在于：所述直线马达包括第一和第二磁体板，所述磁体板彼此相对，一开路线圈组件位于所述磁体板之间，所述线圈组件包括多个卷绕在相应铁磁芯周围的线圈，所述磁体板和所述线圈组件可相对移动。
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