[发明专利]金属光栅模版制作方法无效
| 申请号： | 200410009487.6 | 申请日： | 2004-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN1740404A | 公开（公告）日： | 2006-03-01 |
| 发明（设计）人： | 赵泽宇;侯德胜;杜春雷;王长涛 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | C25F3/14 | 分类号： | C25F3/14 |
| 代理公司： | 北京科迪生专利代理有限责任公司 | 代理人： | 刘秀娟;成金玉 |
| 地址： | 610209*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 金属光栅模版的制作方法，其制作过程为，通过光刻工艺中的匀胶、曝光、显影等工序在金属表面形成光刻胶光栅图形后，把金属工件作为正电极，让有光栅图形的一面与负电极相对放置在电解液中，进行电解刻蚀，光刻胶光栅图形中裸露出来的金属表面逐渐被电解脱离，形成沟槽，而被光刻胶掩蔽的金属表面被保护下来，达到刻蚀深度后取出金属模块，去胶并清洗干净，得到金属光栅模版。采用本发明工艺制作金属光栅模版，具有设备简单，成本低，刻蚀速率快，刻蚀方向性好，刻蚀面光洁度好，刻蚀图形精度高等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 金属 光栅 模版 制作方法 | ||
【主权项】：
(1)首先通过匀胶、曝光、显影等工序，在金属工件表面形成光刻胶光栅图形，即没有光刻胶的地方金属表面裸露出来，而有光刻胶的地方金属表面被光刻胶掩蔽；
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