[发明专利]光栅尺双向对接曝光法无效
申请号: | 200410009663.6 | 申请日: | 2004-10-14 |
公开(公告)号: | CN1760759A | 公开(公告)日: | 2006-04-19 |
发明(设计)人: | 赵泽宇 | 申请(专利权)人: | 中国科学院光电技术研究所 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G01B11/00 |
代理公司: | 北京科迪生专利代理有限责任公司 | 代理人: | 刘秀娟;成金玉 |
地址: | 610209*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 光栅尺双向对接曝光法,其基本原理就是通过精确控制对接重叠区域的曝光量,使得该区域的曝光量与其它区域的曝光量相同,从而达到扩延有效曝光区域之目的。因此采用双向对接曝光法可以解决曝光机的导轨过短,曝光行程不足的问题。实验表明采用双向对接曝光技术,曝光重合处的光栅线条完全满足测量要求,并大幅度提高了曝光设备的有效行程,解决了曝光机导轨行程短的问题。本发明方法操作简单,不需要对原有的曝光机结构进行大的改动,时间短,成本低,具有很高的实用推广价值。 | ||
搜索关键词: | 光栅尺 双向 对接 曝光 | ||
【主权项】:
1、光栅尺双向对接曝光法,其特征在于包括以下步骤:(1)首先分别在曝光机导轨最大行程处的载物台和曝光灯上各作一个对准标记;(2)将移动平台退到初始位置,把光栅母尺覆盖在均匀涂有聚乙烯醇感光胶的玻璃尺基板上,并固定在载物台上进行接触曝光;(3)从均匀涂有感光胶的玻璃尺基板的一端,开始正向曝光,待曝光至标记处时,立即自动关闭遮光板,停止曝光;(4)平移载物台,电机反转,由玻璃尺基板的另一端开始反向曝光;(5)待再次曝光至标记处时,立即自动关闭遮光板,停止曝光,曝光过程结束。
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