[发明专利]光栅尺双向对接曝光法无效

专利信息
申请号: 200410009663.6 申请日: 2004-10-14
公开(公告)号: CN1760759A 公开(公告)日: 2006-04-19
发明(设计)人: 赵泽宇 申请(专利权)人: 中国科学院光电技术研究所
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G01B11/00
代理公司: 北京科迪生专利代理有限责任公司 代理人: 刘秀娟;成金玉
地址: 610209*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 光栅尺双向对接曝光法,其基本原理就是通过精确控制对接重叠区域的曝光量,使得该区域的曝光量与其它区域的曝光量相同,从而达到扩延有效曝光区域之目的。因此采用双向对接曝光法可以解决曝光机的导轨过短,曝光行程不足的问题。实验表明采用双向对接曝光技术,曝光重合处的光栅线条完全满足测量要求,并大幅度提高了曝光设备的有效行程,解决了曝光机导轨行程短的问题。本发明方法操作简单,不需要对原有的曝光机结构进行大的改动,时间短,成本低,具有很高的实用推广价值。
搜索关键词: 光栅尺 双向 对接 曝光
【主权项】:
1、光栅尺双向对接曝光法,其特征在于包括以下步骤:(1)首先分别在曝光机导轨最大行程处的载物台和曝光灯上各作一个对准标记;(2)将移动平台退到初始位置,把光栅母尺覆盖在均匀涂有聚乙烯醇感光胶的玻璃尺基板上,并固定在载物台上进行接触曝光;(3)从均匀涂有感光胶的玻璃尺基板的一端,开始正向曝光,待曝光至标记处时,立即自动关闭遮光板,停止曝光;(4)平移载物台,电机反转,由玻璃尺基板的另一端开始反向曝光;(5)待再次曝光至标记处时,立即自动关闭遮光板,停止曝光,曝光过程结束。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院光电技术研究所,未经中国科学院光电技术研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200410009663.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top