[发明专利]光刻装置、照射系统以及提供远紫外线辐射投影光束的方法无效
| 申请号： | 200410010444.X | 申请日： | 2004-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN1627191A | 公开（公告）日： | 2005-06-15 |
| 发明（设计）人： | V·V·伊瓦诺夫;V·Y·巴宁;K·N·科舍勒夫 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明披露一种光刻装置。该光刻装置包括提供辐射光束的照射系统和支撑图案形成装置的支撑结构。图案形成装置配置成在横截面内给辐射光束赋予图案。该装置还包括支撑基底的基底支座，和投影图案光束到基底上靶区的投影系统。该照射系统包括生成远紫外线辐射的辐射生成系统，和收集远紫外线辐射的辐射收集系统。作为远紫外辐射产品的副产物生成的粒子沿粒子移动方向移动。辐射收集系统布置成收集沿收集方向辐射的远紫外辐射，该收集方向基本不同于粒子的运动方向。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 照射 系统 以及 提供 紫外线 辐射 投影 光束 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻装置，包括：提供辐射光束的照射系统；支撑图案形成结构的支撑结构，所述图案形成结构用于在所述辐射光束的横截面内给所述辐射光束赋予图案；支撑基底的基底支座；和将带图案的光束投影到基底的目标部分上的投影系统，所述照射系统包括：生成远紫外线辐射的辐射生成系统，其中作为生成远紫外线辐射产品的副产物而产生的粒子基本上在粒子移动方向上运动；以及收集远紫外线辐射的辐射收集系统，该辐射收集系统布置成收集沿收集方向辐射的远紫外线辐射，该收集方向基本上不同于所述粒子移动方向。
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