[发明专利]氧化锌掺杂的二氧化硅薄膜材料的制备方法无效
申请号: | 200410010640.7 | 申请日: | 2004-01-15 |
公开(公告)号: | CN1641063A | 公开(公告)日: | 2005-07-20 |
发明(设计)人: | 马剑钢;刘益春;徐海洋 | 申请(专利权)人: | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
主分类号: | C23C14/10 | 分类号: | C23C14/10;C23C14/35 |
代理公司: | 长春科宇专利代理有限责任公司 | 代理人: | 李恩庆 |
地址: | 130031吉*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | 本发明属于光电子材料技术领域,是一种氧化锌掺杂的二氧化硅薄膜材料的制备方法。先将氧化锌粉末放入加工好的模具当中,利用压片机或者油压机把氧化锌粉末加工成原柱形,经过900~1200℃高温焙烧2~4小时,使之成为陶瓷靶。然后把氧化锌陶瓷靶,均匀的分散固定到二氧化硅靶上。采用磁控溅射系统,以高纯度氩气为溅射气体,同时引入高纯氧气进行反应溅射,靶材与衬底的距离为3~7cm。最后将制备出的薄膜材料在高纯度氧气的气氛下退火0.5~1小时,退火温度应保持在650~750℃。本发明不需要对磁控溅射的设备进行改造,仅仅需要加工氧化锌陶瓷靶,原材料消耗少。所得到的薄膜材料均匀性好,发光效率明显提高。 | ||
搜索关键词: | 氧化锌 掺杂 二氧化硅 薄膜 材料 制备 方法 | ||
【主权项】:
1、一种氧化锌掺杂的二氧化硅薄膜材料的制备方法,其特征是将纯度为99.999%以上的氧化锌粉末放入加工好的模具当中,利用压片机或者油压机把氧化锌粉末加工成直径5~12mm、厚度2~5mm的原柱形,经过900~1200℃高温焙烧2~4小时,使之成为陶瓷靶;将上述加工好的氧化锌陶瓷靶,均匀的分散固定到二氧化硅靶上;采用磁控溅射系统,以高纯度氩气为溅射气体,同时引入高纯氧气进行反应溅射,氩气的流量和氧气的流量比为4~2∶1;将制备出的薄膜材料在高纯度氧气的气氛下退火0.5~1小时,退火温度应保持在650~750℃。
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