[发明专利]一种数控抛光用非接触式喷液磨头无效

专利信息
申请号: 200410011215.X 申请日: 2004-11-10
公开(公告)号: CN1727116A 公开(公告)日: 2006-02-01
发明(设计)人: 王君林 申请(专利权)人: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
主分类号: B24B13/00 分类号: B24B13/00;B24B57/02
代理公司: 长春科宇专利代理有限责任公司 代理人: 刘树清
地址: 130031吉*** 国省代码: 吉林;22
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摘要: 一种数控抛光用非接触式喷液磨头,属于光学冷加工技术领域涉及的一种磨头,本发明要解决的技术问题是:提供一种数控抛光用非接触式喷液磨头。解决的技术方案是:包括空心驱动轴、空心磨头、磨头空腔、抛光液出孔;空心驱动轴垂直空心磨头,两者为一体件或配合件,轴的空心与磨头的空腔相通,空心磨头上分布着抛光液出孔,分布遵循中心部位孔大,越往边缘过渡孔就越小的规律,分布可以是规则的,也可以是不规则的,规则的有同心圆式分布或螺旋式分布,该磨头可消除抛光局部去除量的不均匀性,保证抛光质量。
搜索关键词: 一种 数控 抛光 接触 式喷液磨头
【主权项】:
1、一种数控抛光用非接触式喷液磨头,包括驱动轴、磨头、其特征在于还包括磨头空腔(6)、抛光液出孔(7),空心驱动轴(4)垂直于空心磨头(5),两者为一体件或者是配合件,空心驱动轴(4)的空心与空心磨头(5)的磨头空腔(6)相通,空心磨头(5)的工作面上分布着抛光液出孔(7),分布遵循着中心部位的孔大,越往边缘过渡孔就越小的规律;抛光液出孔(7)的分布可以是规则的,也可以是不规则的,规则的有同心圆式分布或螺旋式分布,同心圆式分布的,每一个同心圆上的孔的大小一致,越往边缘过渡的同心圆上的孔越小,螺旋式分布的,每一条螺旋线上的孔,越往边缘过渡孔越小;不规则排列的,越往边缘过渡孔就越小。
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