[发明专利]用衍射仪测量等周期多层膜膜厚随机变化量的方法无效
申请号: | 200410011282.1 | 申请日: | 2004-11-30 |
公开(公告)号: | CN1727842A | 公开(公告)日: | 2006-02-01 |
发明(设计)人: | 杨雄;姚志华;张立超;金卫华;金春水 | 申请(专利权)人: | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
主分类号: | G01B11/06 | 分类号: | G01B11/06 |
代理公司: | 长春科宇专利代理有限责任公司 | 代理人: | 梁爱荣 |
地址: | 130031吉*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | 本发明涉及多层膜参数测量技术。在X射线衍射仪上测量多层膜,得到记录有反射率或衍射光强及其入射角θ的数据文件;利用一个峰值反射率或两个峰值衍射光强及其入射角θ和衍射级m,再根据多层膜的比值γ、周期数N和单界面反射系数r12,利用公式α/2=mγπ和如上述公式以及Δd=Δαλ/4πsinθ计算得到多层膜周期厚度的随机变化量的均方差Δd,完成对多层膜膜厚随机变化量的测量。本发明利用测量多层膜周期厚度时得到的数据文件,利用一个峰值反射率或两个峰值衍射光强及与其相对应的掠入射角θ和衍射级m,根据多层膜的厚度比值γ、周期数N和单界面反射系数r12,就可以得到等周期多层膜膜厚随机变化量的均方差值,解决了背景技术只能计算出多层膜周期厚度的问题。 | ||
搜索关键词: | 衍射 测量 周期 多层 膜膜厚 随机 变化 方法 | ||
【主权项】:
1、用衍射仪测量等周期多层膜膜厚随机变化量的方法,其特征在于:a、首先在衍射仪上,利用测量多层膜周期厚度的方法对多层膜进行测量,得到记录有反射率及与其相对应的掠入射角度θ的数据文件;b、寻找步骤a中数据文件的一个峰值反射率R及与其相对应的掠入射角度θ和衍射级m,然后再根据多层膜制备时确定的比值γ、周期数N和单界面反射系数r12,然后利用公式:α/2=mγπ的得到α/2的数值,将各参数带入公式: 计算得到Δα的值,最后再利用公式:Δd=Δαλ/4πsinθ计算得到多层膜周期厚度的随机变化量的均方差Δd,则利用一个峰值反射率完成了对多层膜膜厚随机变化量的测量。
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