[发明专利]掩膜坯及掩膜坯的制造方法有效
| 申请号： | 200410011872.4 | 申请日： | 2004-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN1605397A | 公开（公告）日： | 2005-04-13 |
| 发明（设计）人： | 小林英雄;樋口孝雄 | 申请（专利权）人： | HOYA株式会社 |
| 主分类号： | B05D1/40 | 分类号： | B05D1/40;B05D3/00;G03F1/14;G03F1/08;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 刘晓峰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种掩膜坯的制造方法，该方法包括保护膜形成过程，该过程将包含抗蚀材料和溶剂的抗蚀溶液分配到方形衬底上，旋转衬底以能在衬底上散布分配过的抗蚀溶液，并干燥散布在衬底上的抗蚀溶液，由此在衬底上形成包括抗蚀材料的保护膜。在保护膜形成过程中旋转衬底时，排气件执行排气操作，以能沿着衬底的上表面从衬底的中心到衬底的外周缘部产生气流，以便能够抑制通过旋转衬底在衬底的外周缘部形成的抗蚀溶液的浆液移向衬底的中心。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜坯 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜坯的制造方法，该方法包括保护膜形成过程，该过程将包含抗蚀材料和溶剂的抗蚀溶液分配到方形衬底上，旋转衬底以能在衬底上散布分配过的抗蚀溶液，并干燥散布在衬底上的抗蚀溶液，由此在衬底上形成包括抗蚀材料的保护膜，其中：保护膜形成过程中旋转衬底时，沿着衬底的上表面从衬底的中心到衬底的外周缘部产生气流，由此在旋转衬底后能够抑制在衬底的外周缘部形成的抗蚀溶液的浆液移向中心。
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