[发明专利]形成用于磁头的读取传感器的方法无效
| 申请号： | 200410012013.7 | 申请日： | 2004-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN1604192A | 公开（公告）日： | 2005-04-06 |
| 发明（设计）人： | 阿曼达·贝尔;马里－克莱尔·西里尔;弗雷德里克·H·迪尔;王汝诚;彻恩吉·黄;马斯塔法·皮纳巴西 | 申请（专利权）人： | 日立环球储存科技荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G11B5/127 | 分类号： | G11B5/127;G11B5/33 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波;侯宇 |
| 地址： | 荷兰阿*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种制造读取传感器的方法，该方法在多个读取传感层的中心区域形成第一光致抗蚀剂层。通过离子研磨去除在第一光致抗蚀剂层周围的读取传感层的端部，以限定读取传感器的长条高度。接下来，在读取传感层被去除的端部沉积绝缘层。通过用CMP衬垫的机械作用去除第一光致抗蚀剂层。限定读取传感器的轨道宽度，在保留读取传感层的中心区域形成第二光致抗蚀剂层。通过离子研磨去除第二光致抗蚀剂层周围的读取传感层的端部，以限定读取传感器的轨道宽度。在读取传感层被去除的端部沉积硬偏磁层和引线层。通过用CMP衬垫的机械作用去除第二光致抗蚀剂层。因此，消除了包括使用具有凹陷的光致抗蚀剂结构的固有问题。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 用于 磁头 读取 传感器 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于形成用于一磁头的一读取传感器的方法，包括：在形成读取传感器的一轨道宽度之前：在多个读取传感层上的一中心区域中形成一光致抗蚀剂层；蚀刻读取传感层，使得读取传感层的端部被去除，并且一中心部分保留在光致抗蚀剂层下面，从而限定读取传感器的一长条高度；和通过用化学机械抛光衬垫的机械作用去除光致抗蚀剂层。
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